真空烘烤除（chú）氣裝置

作者：華宇分公司時間：2022-12-23點擊：4072次

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該設備與大型微波（bō）源對接，可（kě）以完成（chéng）微波在空間不（bú）同高度環境（jìng）中相關實驗。可以實現某一高度（dù）、不同濕度、不同溫度下的環境模（mó）擬實驗。依據這套設備組建成了我國第一個HPM大（dà）氣（qì）等離子體實驗室。


產品參數

序（xù）號

項目

技術參數

1

真空容器尺寸

Φ1800mm×2700mm（L）

2

真空度

1×105Pa～1×10-2 Pa

3

溫度範圍

熱沉溫度在-60℃～40℃範圍內可調，控製（zhì）點

4

控製精度

±1℃

5

濕度指標（biāo）

在（zài）15℃～40℃範圍（wéi）內，壓力從2000 Pa～大氣壓，水蒸汽在此壓力範圍內分（fèn）壓控製精確優於（yú）±10%



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